美晶新材取得一种半导体石英舟的洗净方法专利，确保洗净并降低伤害

金融界2024年7月28日消息，天眼查知识产权信息显示，美晶新材取得一种半导体石英舟的洗净方法专利，确保洗净并降低伤害浙江美晶新材料股份有限公司取得一项名为“一种半导体石英舟的洗净方法“，授权公告号CN202410563108.5，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，本发明提供了一种半导体石英舟的洗净方法，所述洗净方法包括依次进行的第一酸洗、第一水洗、第二酸洗、第二水洗与干燥，其中，所述第一酸洗采用硝酸水溶液，可以确保石英舟表面附着的金属和金属氧化物在硝酸的作用下形成金属离子，便于在后续洗净工序中进一步去除，所述第二酸洗采用含氟化氢铵与EDTA铵盐的混合水溶液，可以在氟离子的作用下使得石英舟表面金属离子得以剥落，并在EDTA铵盐的配位作用下进一步去除石英舟表面残留金属离子。本发明所述洗净方法采用氟化氢铵取代氢氟酸提供氟离子，具有化学稳定性较强、对人体皮肤的伤害作用较小的优点，并对石英舟的腐蚀较为温和，不会造成过度腐蚀。